Todo el mundo quiere quitarle el trono a ASML. Hoy ASML ha decidido que el trono es más alto

ASML, una empresa neerlandesa, ha presentado un avance significativo en la tecnología de fabricación de chips, que podría impulsar la producción mundial de chips en un 50% para 2030. Los investigadores han desarrollado un método para aumentar la potencia de la fuente de luz en sus máquinas de litografía de ultravioleta extremo (EUV). Este avance tiene como objetivo mejorar la eficiencia y el rendimiento de la fabricación de semiconductores, un sector crítico para la economía digital. La innovación central radica en lograr 1000 vatios de potencia de la fuente de luz EUV, un salto sustancial desde los 600 vatios actuales. Esto se logra a través de un proceso refinado que implica pulsos láser sincronizados con precisión sobre gotas de estaño fundido, creando plasma de alta energía que emite la luz ultravioleta necesaria. El aumento de la intensidad de la luz se traduce directamente en un mayor "rendimiento" de chips funcionales por cada oblea de silicio. Este desarrollo tiene implicaciones considerables para el panorama global de semiconductores, beneficiando directamente a ASML y potencialmente desafiando a sus rivales. Los fabricantes que utilicen estas máquinas mejoradas podrían procesar un mayor número de obleas de silicio por hora, lo que llevaría a una mayor disponibilidad de chips. Este avance es fundamental en el impulso continuo hacia microelectrónica más potente y eficiente, afectando a todo, desde dispositivos de consumo hasta computación avanzada.