Alle wollen ASML den Thron streitig machen. Heute hat ASML entschieden, dass der Thron höher ist

ASML, ein niederländisches Unternehmen, hat einen bedeutenden Fortschritt in der Chipfertigungstechnologie vorgestellt, der die globale Chip Produktion bis 2030 um 50 % steigern könnte. Forscher haben eine Methode entwickelt, um die Leistung der Lichtquelle in ihren Extreme Ultraviolet (EUV) Lithografiemaschinen zu erhöhen. Dieser Durchbruch zielt darauf ab, die Effizienz und den Durchsatz der Halbleiterfertigung zu verbessern, einem kritischen Sektor für die digitale Wirtschaft. Die Kerninnovation liegt im Erreichen von 1000 Watt Leistung aus der EUV-Lichtquelle, ein erheblicher Sprung von den aktuellen 600 Watt. Dies wird durch einen verfeinerten Prozess erreicht, bei dem präzise getimte Laserpulse auf geschmolzene Zinn-Tröpfchen wirken, wodurch hochenergetisches Plasma entsteht, das das notwendige ultraviolette Licht emittiert. Die erhöhte Lichtintensität führt direkt zu einer höheren "Ausbeute" an funktionsfähigen Chips pro Siliziumwafer. Diese Entwicklung hat erhebliche Auswirkungen auf die globale Halbleiterlandschaft und kommt ASML direkt zugute und stellt potenziell Wettbewerber heraus. Hersteller, die diese verbesserten Maschinen einsetzen, könnten eine höhere Anzahl von Siliziumwafern pro Stunde verarbeiten, was zu einer größeren Chipverfügbarkeit führt. Dieser Fortschritt ist entscheidend für den anhaltenden Trend zu leistungsfähigeren und effizienteren Mikroelektronikkomponenten, der sich auf alles von Consumer-Geräten bis hin zu fortschrittlichen Computersystemen auswirkt.